El ‘Designer’ en Nueva York

Los jóvenes diseñadores Alex Polo y Miguel Moyano llevarán sus creaciones a la semana de la moda.

Cada autor en el cosmos de la moda tiene su manera de interpretar la identidad nacional, así como su forma de reflejarla en sus creaciones. ¿Cómo lee la identidad la joven diseñadora cuencana Álex Polo? “Al investigar la comunidad shuar aprendí que las formas que pintan en su piel representan el poder, la fuerza, la naturaleza, las leyes ascentrales... en mis siluetas quiero manifestar estructuras de poder y naturaleza, por eso plasmé caras y plumas de coronas”.

El ambateño Miguel Moyano, radicado en Colombia, reflexiona sobre los sistemas geopolíticos. “Dividen a los seres humanos por su etnia y su lenguaje”. Con su última colección, dice, trató de crear nuevos seres con una identidad global, que cada quien construye desde sus raíces pero alimentándolo de las experiencias diarias. ¿Cómo se traduce eso en el vestuario? Con grafías de mapas en los textiles. “Tomo un mapamundi, lo vectorizo, lo deconstruyo y formo mis nuevos continentes. Y eso se ve reflejado en el cuerpo”.

La identidad ecuatoriana, como inspiración para la moda, es la temática que acompaña a la siguiente edición de la presentación Epson Digital Couture en la semana de la moda de Nueva York (New York Fashion Week), que arranca el 7 de febrero.

Es la tercera participación de esa marca fabricante de impresoras y otros dispositivos electrónicos en tal evento, explica Marieta Ávila, ejecutiva business Epson Ecuador.

Ambos diseñadores fueron escogidos para esa pasarela gracias a sus trabajos reconocidos y proyectados en Ecuador en la plataforma Designer Book: Moyano participó en la edición de Quito, y Polo, en Samborondón. “Lo que nos motivó a ser parte de este proyecto es potencializar talentos ecuatorianos fuera del país... En esta época también es importante ir de la mano con la innovación y la tecnología para generar piezas únicas, con identidad”, afima María Susana Rivadeneira, directora creativa del Designer Book.

Procesos de autor

La intervención de Álex y Miguel en Nueva York será con base en diseños sublimados. El proceso de sublimación consiste en el traspaso de color a la tela mediante el calor. El diseño primero se estampa en papel de transferencia a través de una impresora especial de alta calidad, y luego se impregna a la tela por el contacto de una plancha de calor a 200 grados. De esta manera, los motivos del tema son creaciones únicas de cada autor.

Es una técnica ya conocida para ambos diseñadores. “Siempre me gustó la idea de plasmar mi propia tela. Las dos últimas colecciones de Designer Book fueron diseñadas por mí así. Me gusta que muestre una idea concreta que nunca antes nadie haya visto, que alguien diga que este textil no lo voy a encontrar en otra parte del mundo”.

“El reto más grande es entender el proceso, las limitantes y las posibilidades de la técnica e ir rediseñando las ideas. El color hay que ir adaptándolo y haciendo pruebas hasta encontrar el tono que aparece en pantalla”, amplía Miguel. Según Marieta Ávila, el material ideal para este procedimiento deber tener predominancia de poliéster en un 75%. El color tiene mayor fidelidad en esa textura, agrega Miguel.

Sobre los modelos, esos talentos se han decantado por piezas sobredimensionadas y siluetas imponentes para que las tramas ostenten protagonismo, sobre todo en chaquetas, faldas y vestidos.

No es la primera vez que los nombres de creativos ecuatorianos estarán en el programa de uno de los acontecimientos más importantes de la moda a nivel mundial. El año pasado, el diseñador Gustavo Moscoso protagonizó el desfile para Epson. En esa ocasión, el autor tomó como inspiración la belleza arquitectónica del Palacio de Cristal de Cuenca y los estilos de finales del siglo XIX. (I)